1 鈣鈦礦電池劃線輪廓質(zhì)量對漏電與串聯(lián)電阻的影響

鈣鈦礦電池模組制備核心工序中，激光劃線刻蝕是實現(xiàn)電池單元精準分割、層間電路串聯(lián)互聯(lián)的關鍵工藝，劃線溝槽的輪廓規(guī)整度、刻蝕深度一致性、側(cè)壁平整度及邊緣完整性，直接關乎電池電學性能核心指標。若劃線存在刻蝕殘留、溝槽側(cè)壁毛刺過度、刻蝕深淺不均、邊緣薄膜破損等形貌缺陷，極易造成電池層間微短路，引發(fā)器件漏電電流飆升；同時，不規(guī)則的劃線接觸界面會增大電路傳輸接觸損耗，直接導致電池串聯(lián)電阻大幅升高，不僅削弱電池光電轉(zhuǎn)換效率，還會加速組件長期工作功率衰減，降低產(chǎn)品服役壽命與量產(chǎn)良率。因此，精準管控激光劃線微觀輪廓形貌，是從工藝源頭抑制漏電、壓降串聯(lián)電阻的核心管控要點。

2 傳統(tǒng)劃線輪廓檢測工藝的應用弊端

目前鈣鈦礦電池量產(chǎn)常用的常規(guī)檢測方式，難以滿足劃線輪廓高精度電學適配管控需求。普通光學顯微鏡僅能實現(xiàn)劃線表面二維宏觀外觀觀測，無法量化溝槽深度、側(cè)壁微觀粗糙度及刻蝕臺階偏差，難以識別隱性形貌缺陷；接觸式輪廓儀依靠探針接觸采樣，易劃傷鈣鈦礦光敏薄膜與導電層結(jié)構(gòu)，造成樣品不可逆損壞，且僅能單點采集二維數(shù)據(jù)，無法全面表征劃線全域三維輪廓特征。傳統(tǒng)檢測模式數(shù)據(jù)精度低、檢測效率慢，無法精準關聯(lián)輪廓形貌與漏電、串聯(lián)電阻電學參數(shù)，難以支撐工藝實時調(diào)校優(yōu)化。

3 白光干涉儀劃線輪廓精準測量專項解決方案

白光干涉儀基于非接觸式短相干干涉測量原理，適配鈣鈦礦電池激光劃線全尺寸、全形貌高精度無損檢測需求。設備單次掃描即可快速采集劃線溝槽刻蝕深度、側(cè)壁粗糙度、邊緣輪廓平整度及刻蝕均勻度等全維度參數(shù)，同步生成高清三維形貌云圖，精準識別微刻蝕殘留、側(cè)壁畸變等隱性缺陷。依托量化檢測數(shù)據(jù)，可精準指導激光劃線功率、掃描軌跡、刻蝕速度等工藝參數(shù)優(yōu)化，規(guī)整劃線微觀輪廓，徹底消除層間短路誘發(fā)隱患，有效抑制電池漏電問題，優(yōu)化電路接觸導通性能，穩(wěn)步降低串聯(lián)電阻，全面提升鈣鈦礦電池光電轉(zhuǎn)化效率與量產(chǎn)穩(wěn)定性。新啟航 專業(yè)提供綜合光學3D測量方案。

大視野3D白光干涉儀——涂層表征納米級測量解決方案

突破傳統(tǒng)測量局限，定義涂層表征新范式！大視野3D白光干涉儀依托核心創(chuàng)新技術，一機解鎖納米級全場景測量，以高效與精密兼具的優(yōu)勢，適配各類涂層表征檢測需求，重新詮釋工業(yè)涂層精密測量的核心標準。

核心優(yōu)勢：大視野+高精度，賦能涂層精準表征

打破行業(yè)常規(guī)壁壘，徹底解決傳統(tǒng)設備1倍以下物鏡僅能單孔使用、需兩臺儀器分別實現(xiàn)大視野觀測與高精度測量的痛點。本設備搭載全新0.6倍輕量化鏡頭，配備15mm超大單幅視野，搭配可兼容4個物鏡的轉(zhuǎn)塔鼻輪，一臺設備即可全面覆蓋大視野觀測與高精度測量需求，可通過拼接實現(xiàn)大視野觀察涂層表面質(zhì)量，高效適配涂層表征復雜檢測場景，無需頻繁切換設備，大幅提升檢測效率與數(shù)據(jù)精準度。

涂層表征實測應用圖示

（圖示為實測涂層厚度，精準測得75.2nm，為涂層厚度一致性管控提供可靠數(shù)據(jù)支撐）

（圖示為涂層厚度專項測量，清晰呈現(xiàn)涂層厚度分布，助力涂層工藝優(yōu)化）

（圖示為涂層劃痕分析，測得劃痕厚度1.96μm，精準捕捉涂層劃痕細節(jié)，為涂層缺陷檢測與耐用性評估提供依據(jù)）

新啟航半導體——專業(yè)提供綜合光學3D測量解決方案，深耕涂層表征檢測領域，助力各行業(yè)實現(xiàn)涂層質(zhì)量精準管控！