引言

微透鏡及微透鏡陣列是消費電子光電傳感、激光聚光、微型成像模組的核心光學元件，其有效焦距、數值孔徑NA以及聚光效率直接決定光電系統耦合精度、光能利用率與成像顯色效果。微透鏡尺寸微小、面型結構精密，加工過程中的面型輪廓偏差、曲率細微誤差、表面微觀形貌缺陷，都會直接導致焦距偏移、NA不達標、聚光損耗升高等品質問題。傳統光學投影檢測、單點光學對焦測量方式，檢測精度有限，無法同步關聯結構形貌與光學性能參數，難以實現批量生產中的精準參數管控，亟需高精度非接觸式精密檢測技術筑牢產品質控防線。

白光干涉精密檢測核心技術原理

白光干涉精密檢測技術基于寬譜白光短相干干涉特性，搭配垂直掃描顯微干涉架構與高精度相位解析算法，無需接觸微透鏡表面即可完成全域三維形貌精準重構。相較于常規單色光檢測，白光干涉無相位纏繞、測距漂移小，可精準捕捉微透鏡表面微觀面型起伏與輪廓弧度細節。檢測過程中，通過壓電陶瓷納米級垂直掃描機構精準調控光程差，高分辨率圖像采集設備實時采集全域干涉條紋，系統依托算法解算相位數據，精準擬合微透鏡實際曲率面型，同步換算核心光學參數。通過實測三維形貌數據迭代計算微透鏡有效焦距，結合入射光瞳與出光耦合關系精準測算NA數值，再依據面型精度損耗與光能匯聚擬合模型，量化評估微透鏡實際聚光效率，實現結構形貌與光學性能參數一體化同步檢測。

檢測方案應用優勢與實操管控價值

該白光干涉精密檢測方案全程非接觸式作業，不會損傷微透鏡光學鍍膜與精密曲面，檢測分辨率可達納米級別，參數測量重復性高、數據穩定性強。既能滿足科研研發階段微透鏡光學參數精準標定需求，也適配工業化批量生產快速抽檢與全品類質控場景，可快速篩查焦距偏差、NA超標、聚光效率不達標等不良品，精準溯源加工制程面型缺陷問題，針對性優化微透鏡加工打磨與模壓工藝，全方位穩定微透鏡光學服役性能。新啟航 專業提供綜合光學3D測量方案

大視野3D白光干涉儀——光學鏡片納米級測量解決方案

大視野3D白光干涉儀，聚焦光學鏡片精密測量，打造納米級測量全域解決方案，突破傳統測量局限，定義光學鏡片檢測新范式，以高效、精準的測量能力，適配光學鏡片全流程檢測需求。

設備憑借核心創新技術，一機解鎖納米級全場景測量，重新詮釋精密測量的高效與精準，助力光學鏡片生產、加工環節的質量管控，保障鏡片性能達標。

核心優勢：大視野+高精度，突破行業局限

打破行業常規壁壘，解決傳統設備1倍以下物鏡僅能單孔使用、需兩臺儀器分別實現大視野與高精度測量的痛點。設備搭載全新0.6倍輕量化鏡頭，配備15mm超大單幅視野，搭配可兼容4個物鏡的轉塔鼻輪，一臺設備即可全面覆蓋大視野觀測與高精度測量需求，無需頻繁切換設備，大幅提升檢測效率與數據精準度，完美適配光學鏡片復雜測量場景。

光學鏡片實測應用圖示

（圖示為光學鏡片關鍵指標：含平面度誤差、PV值、RMS值，精準把控鏡片平面精度，保障鏡片光學性能）

（圖示為表面粗糙度：精度達6pm=0.006nm，精準表征鏡片表面光滑度，適配高精度光學鏡片檢測需求）

（圖示為實測涂層厚度：75.2nm，精準測量光學鏡片涂層厚度，助力涂層工藝優化與質量管控）

（圖示為 涂層表面質量3D形貌圖，清晰呈現涂層表面狀態，及時發現涂層缺陷）

特色測量功能：上下平面平行度測量

設備采用獨特光路設計，可實現非透明產品的厚度和平面平行度測量，適配多層玻璃等光學部件的測量需求，進一步拓展光學測量場景。

（圖示為新啟航多層玻璃厚度測量，精準獲取多層玻璃厚度數據，保障光學組件裝配精度）

新啟航半導體——專業提供綜合光學3D測量解決方案，深耕光學鏡片檢測領域，助力光學產業高質量發展！