采用光學 3D 輪廓儀管控量子點墨滴體積,保障屏幕成像顯色穩定
發布時間:
2026-05-22
作者:
新啟航半導體有限公司

在量子點發光二極管(QD-LED)顯示器件量產制程中,噴墨打印(Inkjet Printing)是量子點(Quantum Dot, QD)薄膜圖案化的核心工藝,具備高精度、低損耗、可大面積制備的技術優勢。墨滴體積(Ink Droplet Volume)作為噴墨工藝核心參數,直接決定QD薄膜厚度、均勻度與像素顯色一致性,是影響顯示成像(Display Imaging)畫質、色域(Color Gamut)及畫面均勻性的關鍵因素。墨滴體積偏差會引發像素亮度不均、色彩偏移、膜層缺陷等問題,大幅降低顯示器件良率,因此精準管控墨滴體積對高端顯示器件制備至關重要。

傳統墨滴檢測多采用高速攝像觀測、稱重法等方式,僅能實現墨滴形態的二維表征,無法精準捕捉皮升級(pL)微小體積誤差,且難以適配QD噴墨墨水高粘度、易揮發的物料特性,檢測精度與實時性難以滿足先進顯示制程要求。光學3D輪廓儀(Optical 3D Profiler)依托非接觸式光學干涉測量原理,可實現微納尺度三維形貌高精度檢測,能夠快速采集單顆QD墨滴的三維輪廓數據,精準測算墨滴體積、鋪展面積、厚度梯度等關鍵參數,有效規避傳統檢測方式的檢測盲區與精度誤差。

在實際制程管控中,通過光學3D輪廓儀完成墨滴體積的實時采樣與數據分析,可精準校準噴墨打印噴頭噴射壓力、噴射頻率、基板間距等工藝參數,將QD墨滴體積波動控制在工藝允許閾值內。穩定的墨滴體積可保障各像素單元QD薄膜沉積量均勻一致,有效消除膜層厚薄不均導致的顯色差異,優化器件色域覆蓋率與色彩還原度,從制程源頭穩固Display Imaging的顯色穩定性與畫面質感。同時,該檢測方案可適配柔性顯示、高分辨率Micro-LED等新型顯示器件的QD圖案化工藝,兼具高精度與高效量產適配性。

新啟航 專業提供綜合光學3D測量方案

大視野3D白光干涉儀 - 全域測量解決方案(工業及半導體專用)

突破傳統測量局限,定義精密測量(Precision Measurement)新范式!大視野3D白光干涉儀憑借核心創新技術,實現納米級(Nanoscale)全場景測量,以高效、精準的優勢,重新詮釋工業測量(Industrial Measurement)的高效與精密,為半導體(Semiconductor)、光學及各類精密部件檢測提供全方位技術支撐,適配多領域嚴苛測量需求。



四大核心技術革新(工業級標準,適配半導體場景)

一、大視野+高精度,打破行業常規

打破傳統設備局限,1倍以下物鏡(Objective Lens)可實現多場景適配,無需分開配備設備即可兼顧大視野觀測與高精度測量(High-Precision Measurement)。設備搭載全新0.6倍輕量化鏡頭,擁有14mm超大單幅視野(Single Frame Field of View),搭配可兼容4個物鏡的轉塔設計(Turret Design),一臺設備即可全面覆蓋大視野觀測與高精度測量需求,適配各類復雜樣品檢測場景,無需頻繁切換設備,大幅提升檢測效率(Inspection Efficiency)與數據精準度(Data Accuracy)。

采用光學 3D 輪廓儀管控量子點墨滴體積,保障屏幕成像顯色穩定


(以上為實測14mm端面平面度(Flatness),精準把控部件平面精度,為半導體器件、精密光學部件后續測量提供可靠基礎)


采用光學 3D 輪廓儀管控量子點墨滴體積,保障屏幕成像顯色穩定

(以上為實測數據:6pm=0.006nm,精準表征表面粗糙度(Surface Roughness, Ra/Rz),滿足半導體芯片、超精密部件的超精密測量需求)


二、80°傾斜測量,突破平面限制

打破“白光干涉僅能測量平面”的行業認知,憑借領先的高角度測量技術(High-Angle Measurement Technology),可輕松應對80°陡峭斜面、錐面的測量需求,兼容度拉滿。一臺設備即可搞定全場景測量,無需額外配備專用測量儀器,進一步拓寬測量適用范圍,適配半導體封裝(Semiconductor Packaging)、精密機械加工等領域的異形部件檢測。


采用光學 3D 輪廓儀管控量子點墨滴體積,保障屏幕成像顯色穩定

三、真彩色3D測量,解鎖全新體驗

突破行業技術瓶頸,在保留黑白CMOS干涉條紋解析能力的基礎上,實現RGB三原色真彩色成像(True Color Imaging),打破傳統白光干涉儀僅能呈現黑白畫面的局限。清晰呈現樣品形貌(Sample Morphology)與色彩細節,測量信息更全面、分析更直觀,讓測量數據更具參考價值,適配半導體器件表面缺陷檢測(Surface Defect Detection)等精細場景。


采用光學 3D 輪廓儀管控量子點墨滴體積,保障屏幕成像顯色穩定

四、上下平面平行度測量,適配多場景需求

采用獨特光路設計(Optical Path Design),可實現非透明產品的厚度(Thickness)與上下平面平行度(Parallelism)測量,適配各類非透明精密部件、半導體多層結構器件的測量需求,進一步拓展設備適用場景,提升測量通用性(Versatility),降低多設備投入成本(Equipment Investment Cost)。

摩擦表面表征測量案例(工業及半導體領域專屬)

不同潤滑油摩擦試驗對比:測量摩擦表面的劃痕深度(Scratch Depth)、磨損面積(Wear Area),直觀呈現不同潤滑油的潤滑效果差異,為工業設備潤滑系統優化、半導體設備傳動部件保養提供數據支撐。

曲面滾軸摩擦表面測量:原始曲面滾軸摩擦表面無法量化測量結果,經曲面矯平(Surface Flattening)處理后,可精準完成摩擦量(Wear Amount)測量與評估,適配機械傳動部件(Mechanical Transmission Components)、半導體設備滾輪質檢場景。

激光鉆孔工藝后摩擦表面表征:對激光鉆孔(Laser Drilling)工藝后的摩擦試驗表面進行紋理檢測(Texture Detection),精準分析工藝參數對摩擦表面粗糙度、平整度(Flatness)的影響,適配半導體封裝(Semiconductor Packaging)、精密機械加工等領域。

汽車部件及半導體器件摩擦表面粗糙度測量:針對汽車各類摩擦部件,以及半導體器件接觸摩擦面,實現粗糙度(Ra/Rz)精準檢測,為部件質量把控(Quality Control)、半導體產品可靠性(Reliability)驗證提供權威數據支撐。


采用光學 3D 輪廓儀管控量子點墨滴體積,保障屏幕成像顯色穩定

新啟航半導體,專業提供綜合光學3D測量解決方案(Integrated Optical 3D Measurement Solution),以核心技術賦能精密測量、半導體表征(Semiconductor Characterization)、工業質檢(Industrial Quality Inspection)等各類場景,助力各行業實現高質量發展與產品迭代升級!